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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第230位 206件 (2012年:第333位 124件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第194位 216件 (2012年:第259位 143件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5374143 | 感光性樹脂組成物及び被エッチング基体の製造方法 | 2013年12月25日 | |
特許 5376847 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 | 2013年12月25日 | |
特許 5374175 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年12月25日 | |
特許 5379389 | チタン除去液及びチタン被膜の除去方法 | 2013年12月25日 | |
特許 5376813 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および酸発生剤 | 2013年12月25日 | |
特許 5368845 | 接着剤組成物、接着フィルムおよび熱処理方法 | 2013年12月18日 | |
特許 5368753 | 加工基板の製造方法 | 2013年12月18日 | |
特許 5373124 | 化合物 | 2013年12月18日 | |
特許 5364444 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤 | 2013年12月11日 | |
特許 5364440 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および酸発生剤 | 2013年12月11日 | |
特許 5364436 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および酸発生剤 | 2013年12月11日 | |
特許 5364314 | 熱処理装置 | 2013年12月11日 | |
特許 5364469 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および酸発生剤 | 2013年12月11日 | |
特許 5364256 | 化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年12月11日 | |
特許 5364250 | 窒化チタン剥離液、及び窒化チタン被膜の剥離方法 | 2013年12月11日 |
216 件中 1-15 件を表示
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5374143 5376847 5374175 5379389 5376813 5368845 5368753 5373124 5364444 5364440 5364436 5364314 5364469 5364256 5364250
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