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東京応化工業株式会社

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東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7195331	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2022年12月23日
特許 7195418	レジスト組成物精製品の製造方法、及びレジストパターン形成方法	2022年12月23日
特許 7194492	感光性組成物、感光性組成物の製造方法、光重合開始剤、及び光重合開始剤の調製方法	2022年12月22日
特許 7194525	表面処理方法、表面処理剤、及び基板上に領域選択的に製膜する方法	2022年12月22日
特許 7190826	分離層形成用組成物、分離層付き支持基体、積層体及びその製造方法、並びに電子部品の製造方法	2022年12月16日
特許 7186516	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸発生剤	2022年12月 9日
特許 7186592	レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び化合物	2022年12月 9日
特許 7183021	レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び高分子化合物	2022年12月 5日
特許 7183170	組成物及び硬化物	2022年12月 5日
特許 7182423	化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、めっき造形物の製造方法、及びメルカプト化合物	2022年12月 2日
特許 7178800	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2022年11月28日
特許 7178823	基板加熱装置および基板処理システム	2022年11月28日
特許 7179146	金属レジスト除去用洗浄液、及び該洗浄液を用いた洗浄方法	2022年11月28日
特許 7179147	金属レジスト除去用洗浄液、及び該洗浄液を用いた洗浄方法	2022年11月28日
特許 7175092	光硬化性組成物及びパターン形成方法	2022年11月18日

136 件中 1-15 件を表示

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7195331 7195418 7194492 7194525 7190826 7186516 7186592 7183021 7183170 7182423 7178800 7178823 7179146 7179147 7175092

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