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東京応化工業株式会社
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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第291位 121件
（
2021年：第307位 125件）
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第243位 132件
（2021年：第260位 110件）
（ランキング更新日：2025年4月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7195331 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2022年12月23日 | |
| 特許 7195418 | レジスト組成物精製品の製造方法、及びレジストパターン形成方法 | 2022年12月23日 | |
| 特許 7194492 | 感光性組成物、感光性組成物の製造方法、光重合開始剤、及び光重合開始剤の調製方法 | 2022年12月22日 | |
| 特許 7194525 | 表面処理方法、表面処理剤、及び基板上に領域選択的に製膜する方法 | 2022年12月22日 | |
| 特許 7190826 | 分離層形成用組成物、分離層付き支持基体、積層体及びその製造方法、並びに電子部品の製造方法 | 2022年12月16日 | |
| 特許 7186516 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸発生剤 | 2022年12月 9日 | |
| 特許 7186592 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び化合物 | 2022年12月 9日 | |
| 特許 7183021 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び高分子化合物 | 2022年12月 5日 | |
| 特許 7183170 | 組成物及び硬化物 | 2022年12月 5日 | |
| 特許 7182423 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、めっき造形物の製造方法、及びメルカプト化合物 | 2022年12月 2日 | |
| 特許 7178800 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2022年11月28日 | |
| 特許 7178823 | 基板加熱装置および基板処理システム | 2022年11月28日 | |
| 特許 7179146 | 金属レジスト除去用洗浄液、及び該洗浄液を用いた洗浄方法 | 2022年11月28日 | |
| 特許 7179147 | 金属レジスト除去用洗浄液、及び該洗浄液を用いた洗浄方法 | 2022年11月28日 | |
| 特許 7175092 | 光硬化性組成物及びパターン形成方法 | 2022年11月18日 |
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7195331 7195418 7194492 7194525 7190826 7186516 7186592 7183021 7183170 7182423 7178800 7178823 7179146 7179147 7175092
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