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東京応化工業株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第333位 124件
（
2011年：第366位 107件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第259位 143件
（
2011年：第252位 139件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5105396 | 加熱処理装置 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5108480 | 層間絶縁膜用感光性樹脂組成物 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5103319 | レジストパターン形成方法 | 2012年12月19日 | |
| 特許 5103011 | 貼り合わせ装置及び貼り合わせ方法 | 2012年12月19日 | |
| 特許 5103060 | 冷却装置及び基板の処理装置 | 2012年12月19日 | |
| 特許 5101904 | レジスト下層膜形成用組成物、及びこれを用いたレジスト下層膜 | 2012年12月19日 | |
| 特許 5096796 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年12月12日 | |
| 特許 5097442 | 化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年12月12日 | |
| 特許 5096814 | 着色感光性組成物 | 2012年12月12日 | |
| 特許 5087807 | 有機半導体素子の製造方法及びそれに用いる絶縁膜形成用組成物 | 2012年12月 5日 | 共同出願 |
| 特許 5090789 | 貼り合わせ装置、接着剤の溶解を防ぐ方法、及び貼り合わせ方法 | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5090833 | ポジ型ホトレジスト組成物、及びそれを用いた感光性膜付基板 | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5085342 | 着色感光性樹脂組成物 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5075650 | レジストパターン形成方法 | 2012年11月21日 | |
| 特許 5080250 | 反射防止膜形成用組成物、およびこれを用いた反射防止膜 | 2012年11月21日 |
143 件中 1-15 件を表示
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5105396 5108480 5103319 5103011 5103060 5101904 5096796 5097442 5096814 5087807 5090789 5090833 5085342 5075650 5080250
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