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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第366位 107件
(2010年:第258位 187件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第252位 139件
(2010年:第315位 98件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 4846332 | 化合物およびその製造方法、低分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2011年12月28日 | |
特許 4846294 | 多価フェノール化合物、化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2011年12月28日 | |
特許 4842029 | 精密微細空間の形成方法、および精密微細空間を有する部材の製造方法 | 2011年12月21日 | |
特許 4841823 | 高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2011年12月21日 | |
特許 4841280 | スリットノズル洗浄方法 | 2011年12月21日 | |
特許 4837451 | 精密微細空間の形成方法、および精密微細空間を有する部材の製造方法 | 2011年12月14日 | |
特許 4837323 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法および化合物 | 2011年12月14日 | |
特許 4833040 | 感光性樹脂組成物及び液晶パネル用スペーサ | 2011年12月 7日 | |
特許 4828457 | レジストパターン微細化用被覆形成剤及びそれを用いた微細レジストパターン形成方法 | 2011年11月30日 | |
特許 4828201 | 化学増幅型ホトレジスト組成物、レジスト層積層体およびレジストパタ−ン形成方法 | 2011年11月30日 | |
特許 4825695 | 液状溶剤当接ユニット | 2011年11月30日 | |
特許 4828204 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法、並びに高分子化合物 | 2011年11月30日 | |
特許 4823578 | 多価フェノール化合物、化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2011年11月24日 | |
特許 4823562 | レジストパターン形成方法 | 2011年11月24日 | |
特許 4823640 | 新規な酸発生剤、化学増幅型ホトレジスト組成物、レジスト層積層体およびレジストパターン形成方法 | 2011年11月24日 |
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4846332 4846294 4842029 4841823 4841280 4837451 4837323 4833040 4828457 4828201 4825695 4828204 4823578 4823562 4823640
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