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東京応化工業株式会社

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  2014年 特許取得件数ランキング    第204位 207件 下降2013年:第194位 216件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 5645740 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 2014年12月24日
特許 5646950 マスク材組成物、および不純物拡散層の形成方法 2014年12月24日
特許 5645495 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 2014年12月24日
特許 5641791 樹脂パターンの製造方法 2014年12月17日
特許 5639816 塗布方法及び塗布装置 2014年12月10日
特許 5639617 貼付装置および貼付方法 2014年12月10日
特許 5639795 レジストパターン形成方法 2014年12月10日
特許 5638106 新規な化合物および酸発生剤 2014年12月10日
特許 5636461 共重合体、樹脂組成物、および共重合体の製造方法 2014年12月 3日
特許 5632761 積層体 2014年11月26日
特許 5631343 積層体の製造方法 2014年11月26日
特許 5622448 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 2014年11月12日
特許 5624908 接着剤組成物 2014年11月12日
特許 5624729 レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 2014年11月12日
特許 5624753 リソグラフィー用洗浄液及びこれを用いたレジストパターンの形成方法 2014年11月12日

207 件中 1-15 件を表示

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5645740 5646950 5645495 5641791 5639816 5639617 5639795 5638106 5636461 5632761 5631343 5622448 5624908 5624729 5624753

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