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東京応化工業株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第266位 159件
（
2013年：第230位 206件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第204位 207件
（2013年：第194位 216件）
（ランキング更新日：2025年3月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5645740 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5646950 | マスク材組成物、および不純物拡散層の形成方法 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5645495 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5641791 | 樹脂パターンの製造方法 | 2014年12月17日 | |
| 特許 5639816 | 塗布方法及び塗布装置 | 2014年12月10日 | |
| 特許 5639617 | 貼付装置および貼付方法 | 2014年12月10日 | |
| 特許 5639795 | レジストパターン形成方法 | 2014年12月10日 | |
| 特許 5638106 | 新規な化合物および酸発生剤 | 2014年12月10日 | |
| 特許 5636461 | 共重合体、樹脂組成物、および共重合体の製造方法 | 2014年12月 3日 | |
| 特許 5632761 | 積層体 | 2014年11月26日 | |
| 特許 5631343 | 積層体の製造方法 | 2014年11月26日 | |
| 特許 5622448 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 | 2014年11月12日 | |
| 特許 5624908 | 接着剤組成物 | 2014年11月12日 | |
| 特許 5624729 | レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 | 2014年11月12日 | |
| 特許 5624753 | リソグラフィー用洗浄液及びこれを用いたレジストパターンの形成方法 | 2014年11月12日 |
207 件中 1-15 件を表示
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5645740 5646950 5645495 5641791 5639816 5639617 5639795 5638106 5636461 5632761 5631343 5622448 5624908 5624729 5624753
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