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東京応化工業株式会社
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第280位 165件
（
2016年：第288位 133件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第200位 158件
（2016年：第233位 146件）
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6254280 | 化合物 | 2017年12月27日 | |
| 特許 6255182 | 下地剤、相分離構造を含む構造体の製造方法 | 2017年12月27日 | |
| 特許 6249664 | レジスト組成物、酸発生剤、及びレジストパターン形成方法 | 2017年12月20日 | |
| 特許 6249714 | 相分離構造を含む構造体の製造方法 | 2017年12月20日 | |
| 特許 6249735 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2017年12月20日 | |
| 特許 6250219 | 感光性組成物 | 2017年12月20日 | |
| 特許 6247014 | 感光性樹脂組成物 | 2017年12月13日 | |
| 特許 6247026 | ガラス加工用感光性樹脂組成物及びガラス加工方法 | 2017年12月13日 | |
| 特許 6247112 | ポリイミド樹脂の製造方法、ポリイミド膜の製造方法、ポリアミック酸溶液の製造方法、ポリイミド膜、及びポリアミック酸溶液 | 2017年12月13日 | |
| 特許 6247871 | 積層体、積層体形成キットおよび積層体形成方法 | 2017年12月13日 | |
| 特許 6243608 | 化合物、高分子化合物、レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6244088 | 接着剤組成物、接着フィルムおよび積層体 | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6244109 | レジスト組成物、化合物、高分子化合物及びレジストパターン形成方法 | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6244183 | 処理方法 | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6238593 | 膜形成用組成物 | 2017年11月29日 |
162 件中 1-15 件を表示
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6254280 6255182 6249664 6249714 6249735 6250219 6247014 6247026 6247112 6247871 6243608 6244088 6244109 6244183 6238593
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