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東京応化工業株式会社
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第298位 135件
（
2014年：第266位 159件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第226位 131件
（2014年：第204位 207件）
（ランキング更新日：2025年12月16日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5830273 | レジストパターン形成方法 | 2015年12月 9日 | |
| 特許 5824317 | パターン形成方法 | 2015年11月25日 | |
| 特許 5819693 | 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルタ及び表示装置 | 2015年11月24日 | |
| 特許 5820719 | レジストパターン形成方法 | 2015年11月24日 | |
| 特許 5816468 | 基板収容装置 | 2015年11月18日 | |
| 特許 5816502 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2015年11月18日 | |
| 特許 5816505 | レジストパターン形成方法 | 2015年11月18日 | |
| 特許 5816506 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2015年11月18日 | |
| 特許 5816507 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2015年11月18日 | |
| 特許 5816716 | 高分子化合物 | 2015年11月18日 | |
| 特許 5818710 | パターン形成方法 | 2015年11月18日 | |
| 特許 5814072 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 | 2015年11月17日 | |
| 特許 5814103 | 厚膜ホトレジストパターンの製造方法 | 2015年11月17日 | |
| 特許 5814112 | 洗浄液、及び防食剤 | 2015年11月17日 | |
| 特許 5815215 | 拡散剤組成物、および不純物拡散層の形成方法 | 2015年11月17日 |
135 件中 1-15 件を表示
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5830273 5824317 5819693 5820719 5816468 5816502 5816505 5816506 5816507 5816716 5818710 5814072 5814103 5814112 5815215
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