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東京応化工業株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第266位 159件
（
2013年：第230位 206件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第204位 207件
（2013年：第194位 216件）
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5460074 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2014年 4月 2日 | |
| 特許 5455358 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 | 2014年 3月26日 | |
| 特許 5452101 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 | 2014年 3月26日 | |
| 特許 5452102 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2014年 3月26日 | |
| 特許 5450002 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2014年 3月26日 | |
| 特許 5448619 | サポートプレートの洗浄方法 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5449876 | 搬送装置 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5443678 | 無機物含有ペースト | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5449909 | ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5448649 | 感光性樹脂組成物 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5449993 | ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5449992 | ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5448860 | 分離方法及び分離装置 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5439124 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5438959 | パターン形成方法 | 2014年 3月12日 |
207 件中 136-150 件を表示
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5460074 5455358 5452101 5452102 5450002 5448619 5449876 5443678 5449909 5448649 5449993 5449992 5448860 5439124 5438959
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