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東京応化工業株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第266位 159件
（
2013年：第230位 206件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第204位 207件
（2013年：第194位 216件）
（ランキング更新日：2024年11月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5433279 | 再生レジストの製造方法 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5430821 | レジストパターン形成方法 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5425426 | 塗布装置 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5426855 | ガラス基板の製造方法 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5427540 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5427393 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5422213 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2014年 2月19日 | |
| 特許 5422198 | レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 | 2014年 2月19日 | |
| 特許 5422210 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2014年 2月19日 | |
| 特許 5416925 | 塗布装置 | 2014年 2月12日 | |
| 特許 5412180 | 塗布装置及び塗布方法 | 2014年 2月12日 | |
| 特許 5415517 | 流体用容器及びそれを用いた流体入り容器 | 2014年 2月12日 | |
| 特許 5412139 | ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2014年 2月12日 | |
| 特許 5412134 | 液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法 | 2014年 2月12日 | |
| 特許 5412125 | 液浸露光用ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2014年 2月12日 |
207 件中 166-180 件を表示
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5433279 5430821 5425426 5426855 5427540 5427393 5422213 5422198 5422210 5416925 5412180 5415517 5412139 5412134 5412125
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