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東京応化工業株式会社

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  2013年 出願公開件数ランキング    第230位 206件 上昇2012年:第333位 124件)

  2013年 特許取得件数ランキング    第194位 216件 上昇2012年:第259位 143件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 5173543 ポジ型感光性樹脂組成物 2013年 4月 3日
特許 5173642 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2013年 4月 3日
特許 5172494 液浸露光用レジスト組成物、レジストパターン形成方法、含フッ素高分子化合物 2013年 3月27日
特許 5172505 ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法 2013年 3月27日
特許 5165227 化合物および高分子化合物 2013年 3月21日 共同出願
特許 5162423 ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 2013年 3月13日
特許 5162399 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 2013年 3月13日
特許 5162292 ポジ型レジスト材料およびレジストパターン形成方法 2013年 3月13日
特許 5156442 着色感光性樹脂組成物、ブラックマトリックス、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ 2013年 3月 6日
特許 5150327 液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2013年 2月20日
特許 5144977 洗浄装置、洗浄方法、予備吐出装置、塗布装置及び予備吐出方法 2013年 2月13日
特許 5144976 洗浄装置、洗浄方法、予備吐出装置、及び塗布装置 2013年 2月13日
特許 5145027 レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2013年 2月13日
特許 5138916 パターン形成方法 2013年 2月 6日
特許 5138174 非化学増幅主鎖分解型ポジ型レジスト組成物 2013年 2月 6日

216 件中 181-195 件を表示

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5173543 5173642 5172494 5172505 5165227 5162423 5162399 5162292 5156442 5150327 5144977 5144976 5145027 5138916 5138174

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