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東京応化工業株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第230位 206件
（
2012年：第333位 124件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第194位 216件
（2012年：第259位 143件）
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5349765 | 高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5349770 | 塗布装置及び塗布方法 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5336041 | リチウム二次電池用負極基材 | 2013年11月 6日 | 共同出願 |
| 特許 5336049 | リチウム二次電池用負極基材 | 2013年11月 6日 | 共同出願 |
| 特許 5337576 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5336274 | 着色感光性樹脂組成物及びオキシム系光重合開始剤 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5337579 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5337357 | 塗布装置 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5337461 | 樹脂組成物の塗布方法 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5336146 | 塗布膜形成用組成物及びこれを用いたレジストパターン形成方法 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5331455 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5329281 | 塗布液及び当該塗布液を用いるシリカ系被膜の形成方法 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5331454 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5329192 | 感光性樹脂組成物 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5325399 | 塗膜形成方法 | 2013年10月23日 |
216 件中 31-45 件を表示
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5349765 5349770 5336041 5336049 5337576 5336274 5337579 5337357 5337461 5336146 5331455 5329281 5331454 5329192 5325399
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