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東京応化工業株式会社

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  2013年 出願公開件数ランキング    第230位 206件 上昇2012年:第333位 124件)

  2013年 特許取得件数ランキング    第194位 216件 上昇2012年:第259位 143件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 5349765 高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2013年11月20日
特許 5349770 塗布装置及び塗布方法 2013年11月20日
特許 5336041 リチウム二次電池用負極基材 2013年11月 6日 共同出願
特許 5336049 リチウム二次電池用負極基材 2013年11月 6日 共同出願
特許 5337576 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2013年11月 6日
特許 5336274 着色感光性樹脂組成物及びオキシム系光重合開始剤 2013年11月 6日
特許 5337579 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 2013年11月 6日
特許 5337357 塗布装置 2013年11月 6日
特許 5337461 樹脂組成物の塗布方法 2013年11月 6日
特許 5336146 塗布膜形成用組成物及びこれを用いたレジストパターン形成方法 2013年11月 6日
特許 5331455 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 2013年10月30日
特許 5329281 塗布液及び当該塗布液を用いるシリカ系被膜の形成方法 2013年10月30日
特許 5331454 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 2013年10月30日
特許 5329192 感光性樹脂組成物 2013年10月30日
特許 5325399 塗膜形成方法 2013年10月23日

216 件中 31-45 件を表示

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5349765 5349770 5336041 5336049 5337576 5336274 5337579 5337357 5337461 5336146 5331455 5329281 5331454 5329192 5325399

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