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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第266位 159件 (2013年:第230位 206件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第204位 207件 (2013年:第194位 216件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5568258 | ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに含フッ素高分子化合物 | 2014年 8月 6日 | |
特許 5568254 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 | 2014年 8月 6日 | |
特許 5564402 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 | 2014年 7月30日 | |
特許 5563752 | 塗布装置及び塗布方法 | 2014年 7月30日 | 共同出願 |
特許 5564555 | 新規な化合物およびその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2014年 7月30日 | |
特許 5560049 | ナノインプリント用組成物およびパターン形成方法 | 2014年 7月23日 | |
特許 5559501 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2014年 7月23日 | |
特許 5557656 | レジストパターン形成方法 | 2014年 7月23日 | |
特許 5557657 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤 | 2014年 7月23日 | |
特許 5555469 | 拡散剤組成物、および不純物拡散層の形成方法 | 2014年 7月23日 | |
特許 5558191 | 剥離装置及び剥離方法 | 2014年 7月23日 | |
特許 5551412 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤 | 2014年 7月16日 | |
特許 5552365 | 接着剤組成物および接着フィルム | 2014年 7月16日 | |
特許 5550882 | 塗布装置 | 2014年 7月16日 | 共同出願 |
特許 5548494 | 表面改質材料、レジストパターン形成方法及びパターン形成方法 | 2014年 7月16日 |
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5568258 5568254 5564402 5563752 5564555 5560049 5559501 5557656 5557657 5555469 5558191 5551412 5552365 5550882 5548494
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