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東京応化工業株式会社

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東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特許 5551412	レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤	2014年 7月16日
特許 5544151	レジスト組成物、レジストパターン形成方法	2014年 7月 9日
特許 5542413	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2014年 7月 9日
特許 5542500	レジストパターン形成方法およびレジスト組成物	2014年 7月 9日
特許 5544212	レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物およびその製造方法、酸発生剤	2014年 7月 9日
特許 5544126	光学素子の製造方法、光学素子、低屈折率層形成用組成物	2014年 7月 9日
特許 5542402	レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、および酸発生剤	2014年 7月 9日
特許 5544267	レジスト組成物、レジストパターン形成方法	2014年 7月 9日
特許 5542412	ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物	2014年 7月 9日
特許 5546734	着色感光性樹脂組成物、ブラックマトリックス、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ	2014年 7月 9日
特許 5544078	ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2014年 7月 9日
特許 5539304	ポジ型レジスト組成物	2014年 7月 2日
特許 5537357	保護膜形成用材料及びホトレジストパターン形成方法	2014年 7月 2日
特許 5537889	レジスト組成物、レジストパターン形成方法	2014年 7月 2日
特許 5527960	回転処理装置	2014年 6月25日

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5551412 5544151 5542413 5542500 5544212 5544126 5542402 5544267 5542412 5546734 5544078 5539304 5537357 5537889 5527960

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