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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第230位 206件 (2012年:第333位 124件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5292133 | ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2013年 9月18日 | |
特許 5291392 | 支持板剥離装置 | 2013年 9月18日 | |
特許 5285884 | 高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 9月11日 | |
特許 5285882 | 高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 9月11日 | |
特許 5285897 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2013年 9月11日 | |
特許 5285793 | サポートプレートの処理方法 | 2013年 9月11日 | |
特許 5280000 | 減圧乾燥処理装置 | 2013年 9月 4日 | |
特許 5280011 | レジストパターン形成方法 | 2013年 9月 4日 | |
特許 5283824 | 膜形成組成物 | 2013年 9月 4日 | |
特許 5281821 | 着色感光性樹脂組成物 | 2013年 9月 4日 | |
特許 5279353 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体およびパターン形成方法 | 2013年 9月 4日 | |
特許 5276003 | 共重合体、樹脂組成物、表示パネル用スペーサー、平坦化膜、熱硬化性保護膜、マイクロレンズ、および共重合体の製造方法 | 2013年 8月28日 | |
特許 5276314 | 接着剤組成物および接着フィルム | 2013年 8月28日 | |
特許 5276821 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 8月28日 | |
特許 5276805 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 8月28日 |
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5292133 5291392 5285884 5285882 5285897 5285793 5280000 5280011 5283824 5281821 5279353 5276003 5276314 5276821 5276805
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11月26日(火) -
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11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
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12月1日(日) -
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12月5日(木) - 東京 港区
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12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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