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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第266位 159件 (2013年:第230位 206件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第204位 207件 (2013年:第194位 216件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5502438 | 多層レジスト積層体用剥離液及び多層レジスト積層体の処理方法 | 2014年 5月28日 | |
特許 5507601 | レジストパターン形成方法 | 2014年 5月28日 | |
特許 5507113 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物および化合物 | 2014年 5月28日 | |
特許 5507938 | カラーフィルター用感光性樹脂組成物、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ | 2014年 5月28日 | |
特許 5507380 | パターン形成方法 | 2014年 5月28日 | |
特許 5501754 | フォトリソグラフィ用現像液の製造方法及び製造装置 | 2014年 5月28日 | |
特許 5501164 | ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2014年 5月21日 | |
特許 5498768 | リソグラフィー用洗浄液及び配線形成方法 | 2014年 5月21日 | |
特許 5500925 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 | 2014年 5月21日 | |
特許 5500917 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに含窒素高分子化合物 | 2014年 5月21日 | |
特許 5500884 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2014年 5月21日 | |
特許 5498874 | ポジ型感光性樹脂組成物 | 2014年 5月21日 | |
特許 5497276 | 接着剤組成物の製造方法 | 2014年 5月21日 | |
特許 5492441 | レジストパターン形成方法 | 2014年 5月14日 | |
特許 5489417 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2014年 5月14日 |
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5502438 5507601 5507113 5507938 5507380 5501754 5501164 5498768 5500925 5500917 5500884 5498874 5497276 5492441 5489417
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11月28日(木) - 東京 港区
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11月28日(木) -
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11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月28日(木) - 東京 港区
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12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
12月4日(水) -
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12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
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12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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