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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5492395 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2014年 5月14日 | |
特許 5492441 | レジストパターン形成方法 | 2014年 5月14日 | |
特許 5489417 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2014年 5月14日 | |
特許 5489546 | 貼付方法及び貼付装置 | 2014年 5月14日 | |
特許 5484671 | 新規な化合物およびその製造方法 | 2014年 5月 7日 | |
特許 5483858 | 表面処理液及び疎水化処理方法、並びに疎水化された基板 | 2014年 5月 7日 | |
特許 5485433 | 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ | 2014年 5月 7日 | |
特許 5481046 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 | 2014年 4月23日 | |
特許 5478053 | 化合物、および酸発生剤 | 2014年 4月23日 | |
特許 5476490 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体およびパターン形成方法 | 2014年 4月23日 | |
特許 5476046 | 剥離方法、基板の接着剤、および基板を含む積層体 | 2014年 4月23日 | |
特許 5469917 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 | 2014年 4月16日 | |
特許 5469887 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2014年 4月16日 | |
特許 5469845 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2014年 4月16日 | |
特許 5469920 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2014年 4月16日 |
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5492395 5492441 5489417 5489546 5484671 5483858 5485433 5481046 5478053 5476490 5476046 5469917 5469887 5469845 5469920
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11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
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12月4日(水) - 東京 千代田区
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12月4日(水) -
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12月5日(木) - 東京 港区
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12月5日(木) -
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12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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