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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5470055 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 | 2014年 4月16日 | |
特許 5470053 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2014年 4月16日 | |
特許 5469954 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 | 2014年 4月16日 | |
特許 5469939 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 | 2014年 4月16日 | |
特許 5469917 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 | 2014年 4月16日 | |
特許 5469887 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2014年 4月16日 | |
特許 5469845 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2014年 4月16日 | |
特許 5469920 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2014年 4月16日 | |
特許 5469841 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および酸発生剤 | 2014年 4月16日 | |
特許 5466375 | 樹脂パターンの製造方法 | 2014年 4月 9日 | |
特許 5461598 | レジスト用樹脂 | 2014年 4月 2日 | 共同出願 |
特許 5462558 | 塗布装置及び塗布方法 | 2014年 4月 2日 | |
特許 5461503 | 新規化合物 | 2014年 4月 2日 | |
特許 5462681 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 | 2014年 4月 2日 | |
特許 5461472 | 高分子化合物、該高分子化合物を含有するフォトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 | 2014年 4月 2日 |
207 件中 121-135 件を表示
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5470055 5470053 5469954 5469939 5469917 5469887 5469845 5469920 5469841 5466375 5461598 5462558 5461503 5462681 5461472
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11月25日(月) -
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11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
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11月28日(木) -
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12月1日(日) -
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12月4日(水) - 東京 千代田区
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12月5日(木) - 東京 港区
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12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
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