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東京応化工業株式会社

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 5470055 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 2014年 4月16日
特許 5470053 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 2014年 4月16日
特許 5469954 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 2014年 4月16日
特許 5469939 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 2014年 4月16日
特許 5469917 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 2014年 4月16日
特許 5469887 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 2014年 4月16日
特許 5469845 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2014年 4月16日
特許 5469920 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 2014年 4月16日
特許 5469841 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および酸発生剤 2014年 4月16日
特許 5466375 樹脂パターンの製造方法 2014年 4月 9日
特許 5461598 レジスト用樹脂 2014年 4月 2日 共同出願
特許 5462558 塗布装置及び塗布方法 2014年 4月 2日
特許 5461503 新規化合物 2014年 4月 2日
特許 5462681 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 2014年 4月 2日
特許 5461472 高分子化合物、該高分子化合物を含有するフォトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 2014年 4月 2日

207 件中 121-135 件を表示

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5470055 5470053 5469954 5469939 5469917 5469887 5469845 5469920 5469841 5466375 5461598 5462558 5461503 5462681 5461472

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