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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第107位 416件
(2010年:第112位 429件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第67位 474件
(2010年:第72位 394件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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再表 2009-116664 | SOIウェーハの製造方法 | 2011年 7月21日 | |
特開 2011-138102 | ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-137016 | 含窒素有機化合物 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-137182 | 硬化性パーフルオロポリエーテル組成物、その硬化物を用いたゴム及びゲル製品 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-136879 | 可視光応答型酸化チタン系微粒子分散液およびその製造方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-136297 | 可視光応答型酸化チタン系微粒子分散液およびその製造方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-136388 | 合成石英ガラス基板の製造方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-138857 | 放熱性及びリワーク性に優れる電子装置の製造方法及び電子装置 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-138111 | 化学増幅レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-138107 | ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-139089 | 半導体基板の製造方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-138932 | 応力を低減したSOS基板 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-138922 | 太陽電池及び太陽電池製造用スクリーン製版 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-132165 | シラノール基含有オレフィン化合物の製造方法 | 2011年 7月 7日 | |
特開 2011-132164 | 固体材料の表面処理方法 | 2011年 7月 7日 |
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2009-116664 2011-138102 2011-137016 2011-137182 2011-136879 2011-136297 2011-136388 2011-138857 2011-138111 2011-138107 2011-139089 2011-138932 2011-138922 2011-132165 2011-132164
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