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信越化学工業株式会社

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　■　2014年特許取得件数ランキング　　　第66位　549件（2013年：第86位　460件）

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信越化学工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特許 5471180	シリコーン積層基板、その製造方法、シリコーン積層基板製造用シリコーン樹脂組成物及びＬＥＤ装置	2014年 4月16日
特許 5471145	コーティング用組成物及びその被覆物品	2014年 4月16日
特許 5472065	フォトマスク用ガラス基板及びその製造方法	2014年 4月16日
特許 5471478	エキシマレーザ用合成石英ガラスの製造方法	2014年 4月16日
特許 5472217	２，２−ビス（フルオロアルキル）オキシラン類を用いた光酸発生剤の製造方法	2014年 4月16日
特許 5471363	スルホニウム塩、酸発生剤及びこれを用いたレジスト材料、フォトマスクブランク、並びにパターン形成方法	2014年 4月16日
特許 5470178	尿素存在下のラジカル異性化によるＥ，Ｅ−脂肪族共役ジエン化合物の製造方法	2014年 4月16日
特許 5472072	ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法	2014年 4月16日
特許 5471350	事務機用定着ロール又は事務機用定着ベルト用高熱伝導性シリコーンゴム組成物並びに定着ロール及び定着ベルト	2014年 4月16日
特許 5472055	熱伝導性シリコーングリース組成物	2014年 4月16日	共同出願
特許 5474129	半透明積層膜の設計方法およびフォトマスクブランクの製造方法	2014年 4月16日	共同出願
特許 5466455	炭化珪素の製造方法	2014年 4月 9日	共同出願
特許 5463893	アミノ酸変性シラン及びその製造方法	2014年 4月 9日
特許 5468528	単結晶ダイヤモンド成長用基材及びその製造方法並びに単結晶ダイヤモンド基板の製造方法	2014年 4月 9日
特許 5464186	フォトマスクブランク、フォトマスク及びその製造方法	2014年 4月 9日

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5471180 5471145 5472065 5471478 5472217 5471363 5470178 5472072 5471350 5472055 5474129 5466455 5463893 5468528 5464186

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