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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第448位 90件 (2012年:第528位 66件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第712位 45件 (2012年:第1187位 23件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2013-95992 | 薄膜パターン形成方法及びマスク | 2013年 5月20日 | |
特開 2013-95993 | マスクの製造方法 | 2013年 5月20日 | |
特開 2013-91069 | レーザ加工装置及びレーザ加工方法 | 2013年 5月16日 | |
特開 2013-91836 | 薄膜パターン形成方法及び有機EL表示装置の製造方法並びに有機EL表示装置 | 2013年 5月16日 | |
特開 2013-93503 | 露光装置 | 2013年 5月16日 | |
特開 2013-88679 | フィルム露光装置 | 2013年 5月13日 | |
特開 2013-89586 | 薄膜パターン形成方法及び有機EL表示装置の製造方法並びに有機EL表示装置 | 2013年 5月13日 | |
特開 2013-82589 | ガラス基板のレーザ加工装置 | 2013年 5月 9日 | |
特開 2013-82580 | ガラス基板のレーザ加工装置 | 2013年 5月 9日 | |
特開 2013-84373 | マスク | 2013年 5月 9日 | |
特開 2013-83884 | 露光装置 | 2013年 5月 9日 | |
特開 2013-83704 | マスク及びそれに使用するマスク用部材 | 2013年 5月 9日 | |
特開 2013-83838 | フィルム露光装置 | 2013年 5月 9日 | |
特開 2013-83784 | 偏光フィルムの貼付方法 | 2013年 5月 9日 | |
特開 2013-77541 | 薄膜パターン形成方法及び有機EL表示装置の製造方法 | 2013年 4月25日 |
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2013-95992 2013-95993 2013-91069 2013-91836 2013-93503 2013-88679 2013-89586 2013-82589 2013-82580 2013-84373 2013-83884 2013-83704 2013-83838 2013-83784 2013-77541
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2月10日(月) -
2月12日(水) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
2月10日(月) -
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