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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第152位 300件
(2013年:第158位 313件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第168位 260件
(2013年:第176位 235件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5456291 | ITO膜形成用焼結体スパッタリングターゲットの製造方法 | 2014年 3月26日 | |
特許 5453446 | シリコン又はシリコン合金溶解炉 | 2014年 3月26日 | |
特許 5450906 | スパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2014年 3月26日 | |
特許 5453565 | 導電性及び曲げたわみ係数に優れる銅合金板 | 2014年 3月26日 | |
特許 5451674 | 電子材料用Cu−Si−Co系銅合金及びその製造方法 | 2014年 3月26日 | |
特許 5449595 | 導電性及び曲げたわみ係数に優れる銅合金板 | 2014年 3月19日 | |
特許 5449596 | キャリア付銅箔、キャリア付銅箔の製造方法、プリント配線板、プリント回路板、銅張積層板、及び、プリント配線板の製造方法 | 2014年 3月19日 | |
特許 5449381 | エピタキシャル成長用CdTe系半導体基板、基板の保管方法及びエピタキシャル成長方法 | 2014年 3月19日 | |
特許 5449326 | ショットキー接合FETの製造方法 | 2014年 3月19日 | |
特許 5441876 | 電子材料用Cu−Ni−Si−Co系銅合金及びその製造方法 | 2014年 3月12日 | |
特許 5437520 | Cu−Co−Si系銅合金条及びその製造方法 | 2014年 3月12日 | |
特許 5437519 | Cu−Co−Si系銅合金条及びその製造方法 | 2014年 3月12日 | |
特許 5442868 | スパッタリングターゲット及び/又はコイル並びにこれらの製造方法 | 2014年 3月12日 | |
特許 5441854 | インジウムターゲットの製造方法及びインジウムターゲット | 2014年 3月12日 | |
特許 5438825 | スパッタリングターゲット | 2014年 3月12日 |
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5456291 5453446 5450906 5453565 5451674 5449595 5449596 5449381 5449326 5441876 5437520 5437519 5442868 5441854 5438825
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