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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第215位 199件 (2010年:第1800位 14件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第185位 194件 (2010年:第841位 28件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 4813425 | 耐脆化性に優れたゲート酸化膜形成用シリサイドターゲットの製造方法 | 2011年11月 9日 | |
特許 4805304 | キャリヤー付き金属箔及び多層コアレス回路基板の製造方法 | 2011年11月 2日 | |
特許 4804191 | Cu−Zn系合金すずめっき条 | 2011年11月 2日 | |
特許 4807679 | スパッタリングターゲット焼結用粉末 | 2011年11月 2日 | |
特許 4808384 | 水素吸蔵合金 | 2011年11月 2日 | |
特許 4808682 | 焼結体、透明導電膜の製造方法及び透明導電膜 | 2011年11月 2日 | |
特許 4804266 | 電気電子機器用Cu−Zn−Sn合金及びその製造方法 | 2011年11月 2日 | |
特許 4800626 | Si系及びSn系活物質用リチウム二次電池負極用集電体及びその製造方法並びにその集電体を使用したリチウム二次電池。 | 2011年10月26日 | 共同出願 |
特許 4799701 | 電子材料用Cu−Co−Si系銅合金条及びその製造方法 | 2011年10月26日 | |
特許 4800317 | 高純度Ru合金ターゲット及びその製造方法並びにスパッタ膜 | 2011年10月26日 | |
特許 4799710 | プリント配線板用銅箔 | 2011年10月26日 | |
特許 4798890 | 積層板用銅合金箔 | 2011年10月19日 | |
特許 4794863 | スパッタリングターゲット及び光情報記録媒体用薄膜 | 2011年10月19日 | |
特許 4797131 | 廃棄物のガス化溶融装置 | 2011年10月19日 | |
特許 4794757 | 透明電極膜を形成するためのスパッタリングターゲット | 2011年10月19日 |
194 件中 31-45 件を表示
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4813425 4805304 4804191 4807679 4808384 4808682 4804266 4800626 4799701 4800317 4799710 4798890 4794863 4797131 4794757
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11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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12月4日(水) - 東京 千代田区
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12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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