ホーム > 特許ランキング > JX日鉱日石金属株式会社 > 2011年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(JX日鉱日石金属株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2011年 出願公開件数ランキング 第215位 199件
(2010年:第1800位 14件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第185位 194件
(2010年:第841位 28件)
(ランキング更新日:2025年2月18日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4750602 | 熱間加工性に優れた銅合金 | 2011年 8月17日 | |
特許 4749862 | 高純度ハフニウム、同ハフニウムからなるターゲット及び同ターゲットを使用して形成された薄膜 | 2011年 8月17日 | |
特許 4750112 | 超高純度銅及びその製造方法並びに超高純度銅からなるボンディングワイヤ | 2011年 8月17日 | |
特許 4745240 | 鉄を主成分とする粉末冶金用金属粉末及び鉄系焼結体 | 2011年 8月10日 | |
特許 4745239 | 鉄を主成分とする粉末冶金用金属粉末及び鉄系焼結体 | 2011年 8月10日 | |
特許 4745319 | 光情報記録媒体 | 2011年 8月10日 | |
特許 4744937 | プリント配線基板用金属材料 | 2011年 8月10日 | |
特許 4745400 | ITOスクラップからの有価金属の回収方法 | 2011年 8月10日 | |
特許 4744938 | プリント配線基板用金属材料 | 2011年 8月10日 | |
特許 4740814 | 耐ウィスカー性に優れた銅合金リフローSnめっき材 | 2011年 8月 3日 | |
特許 4739310 | ゲート酸化膜形成用ハフニウムシリサイドターゲットの製造方法 | 2011年 8月 3日 | |
特許 4739368 | パーティクル発生の少ないスパッタリングターゲット、バッキングプレート又はスパッタリング装置内の機器及び粗化方法 | 2011年 8月 3日 | |
特許 4734605 | 樹脂組成物 | 2011年 7月27日 | |
特許 4733729 | ZnTe系化合物半導体の表面処理方法および半導体装置の製造方法 | 2011年 7月27日 | 共同出願 |
特許 4728460 | 窒化ガリウム系化合物半導体単結晶の製造方法 | 2011年 7月20日 |
194 件中 76-90 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
4750602 4749862 4750112 4745240 4745239 4745319 4744937 4745400 4744938 4740814 4739310 4739368 4734605 4733729 4728460
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。JX日鉱日石金属株式会社の知財の動向チェックに便利です。
2月18日(火) -
2月19日(水) - 東京 港区
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月18日(火) -
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
特許業務法人 藤本パートナーズ 株式会社ネットス 株式会社パトラ
大阪オフィス:大阪市中央区南船場1-15-14 堺筋稲畑ビル2F 5F 東京オフィス:東京都千代田区平河町1-1-8 麹町市原ビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
愛知県名古屋市中区丸の内二丁目8番11号 セブン丸の内ビル6階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都武蔵野市吉祥寺本町1丁目35-14-202 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 鑑定 コンサルティング