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ＪＸ日鉱日石金属株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第176位 256件
（
2011年：第215位 199件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第224位 173件
（
2011年：第185位 194件）
（ランキング更新日：2025年2月6日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ＪＸ日鉱日石金属株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4989015 | セレンの真空蒸留方法及びその装置 | 2012年 8月 1日 | |
| 特許 4989274 | 金属箔用冷却ドラム | 2012年 8月 1日 | |
| 特許 4986060 | プリント配線板用銅箔 | 2012年 7月25日 | |
| 特許 4986499 | Ｃｕ−Ｎｉ−Ｓｉ合金すずめっき条の製造方法 | 2012年 7月25日 | |
| 特許 4987155 | Ｃｕ−Ｎｉ−Ｓｉ系合金及びその製造方法 | 2012年 7月25日 | |
| 特許 4986057 | ビスマスの電解精製方法 | 2012年 7月25日 | |
| 特許 4986824 | 微量貴金属の高周波プラズマ質量分析装置を用いた分析方法 | 2012年 7月25日 | 共同出願 |
| 特許 4987028 | プリント基板端子用銅合金すずめっき材 | 2012年 7月25日 | |
| 特許 4979752 | 鉛の電解方法（６） | 2012年 7月18日 | |
| 特許 4977046 | エッジオーバーコート防止装置及びそれを用いた電気めっき材の製造方法 | 2012年 7月18日 | |
| 特許 4979751 | 鉛の電解方法（１） | 2012年 7月18日 | |
| 特許 4971856 | 析出型銅合金 | 2012年 7月11日 | |
| 特許 4970550 | 酸化チタンを主成分とする薄膜、酸化チタンを主成分とする薄膜の製造に適した焼結体スパッタリングターゲット及び酸化チタンを主成分とする薄膜の製造方法 | 2012年 7月11日 | |
| 特許 4970633 | 強磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2012年 7月11日 | |
| 特許 4975647 | 非磁性材粒子分散型強磁性材スパッタリングターゲット | 2012年 7月11日 |
173 件中 76-90 件を表示
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4989015 4989274 4986060 4986499 4987155 4986057 4986824 4987028 4979752 4977046 4979751 4971856 4970550 4970633 4975647
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