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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第176位 256件
(2011年:第215位 199件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第224位 173件
(2011年:第185位 194件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4971925 | 高強度高導電性二相銅合金 | 2012年 7月11日 | |
特許 4971856 | 析出型銅合金 | 2012年 7月11日 | |
特許 4975647 | 非磁性材粒子分散型強磁性材スパッタリングターゲット | 2012年 7月11日 | |
特許 4970633 | 強磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2012年 7月11日 | |
特許 4970581 | スパッタリングターゲット及び光情報記録媒体用薄膜 | 2012年 7月11日 | |
特許 4970550 | 酸化チタンを主成分とする薄膜、酸化チタンを主成分とする薄膜の製造に適した焼結体スパッタリングターゲット及び酸化チタンを主成分とする薄膜の製造方法 | 2012年 7月11日 | |
特許 4969186 | 産業廃棄物の処理方法及び産業廃棄物の処理設備 | 2012年 7月 4日 | |
特許 4965554 | 板状材料の加工面の決定方法、加工方法及び加工面を決定する装置並びに平面加工装置 | 2012年 7月 4日 | |
特許 4965540 | スパッタリングターゲット、光情報記録媒体用薄膜及びその製造方法 | 2012年 7月 4日 | |
特許 4965524 | スパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2012年 7月 4日 | |
特許 4965579 | Sb−Te基合金焼結体スパッタリングターゲット | 2012年 7月 4日 | |
特許 4964814 | ロジウムの回収方法 | 2012年 7月 4日 | |
特許 4964795 | 耐磨耗性に優れた銅合金すずめっき条 | 2012年 7月 4日 | |
特許 4966007 | InP単結晶ウェハ及びInP単結晶の製造方法 | 2012年 7月 4日 | |
特許 4968649 | 分析試料の融解用ジルコニウムるつぼ、分析試料の作製方法及び分析方法 | 2012年 7月 4日 |
173 件中 91-105 件を表示
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4971925 4971856 4975647 4970633 4970581 4970550 4969186 4965554 4965540 4965524 4965579 4964814 4964795 4966007 4968649
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2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
〒460-0003 愛知県名古屋市中区錦1-11-11 名古屋インターシティ16F 〒104-0061 東京都中央区銀座8-17-5 THE HUB 銀座OCT 407号室(東京支店) 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
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