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キヤノンアネルバ株式会社

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  2011年 出願公開件数ランキング    第260位 156件 上昇2010年:第335位 133件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第403位 82件 下降2010年:第188位 176件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2011-228510 基板処理装置、及び、基板移載方法 2011年11月10日
特開 2011-216658 不揮発性記憶素子およびその製造方法 2011年10月27日
特開 2011-202217 マグネトロンスパッタリング装置、及び、スパッタリング方法 2011年10月13日
特開 2011-202270 真空処理装置及び真空処理方法 2011年10月13日
特開 2011-205057 金属窒化膜、該金属窒化膜を用いた半導体装置、および半導体装置の製造方法 2011年10月13日
特開 2011-202190 スパッタリング装置及びスパッタリング方法 2011年10月13日
特開 2011-204369 ニュートラライザ及びこれを備えたイオンビーム装置 2011年10月13日
特開 2011-205878 真空アクチュエータ及び基板搬送ロボット 2011年10月13日
再表 2009-144810 シリサイド形成方法とその装置 2011年 9月29日
特開 2011-190032 基板搬送装置 2011年 9月29日
特開 2011-190530 シャッター装置及び真空処理装置 2011年 9月29日
特開 2011-190522 真空処理装置 2011年 9月29日
再表 2009-142223 スパッタリング用ターゲット、薄膜の製造法及び表示装置 2011年 9月29日
特開 2011-191887 真空処理装置およびその制御方法、制御プログラムおよびその記録媒体 2011年 9月29日
特開 2011-187938 トレイ式基板搬送システム、成膜方法及び電子装置の製造方法 2011年 9月22日

156 件中 16-30 件を表示

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2011-228510 2011-216658 2011-202217 2011-202270 2011-205057 2011-202190 2011-204369 2011-205878 2009-144810 2011-190032 2011-190530 2011-190522 2009-142223 2011-191887 2011-187938

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