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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第260位 156件 (2010年:第335位 133件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第403位 82件 (2010年:第188位 176件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2011-138944 | 基板処理装置 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-137616 | 冷却トラップ、デシケータ、電子デバイスの製造方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-137596 | 真空熱処理装置および半導体デバイスの製造方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-138653 | 電子衝撃加熱装置及びこれを用いた半導体デバイスの製造方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-138844 | 真空処理装置および半導体デバイスの製造方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-138859 | 真空処理装置、および半導体デバイスの製造方法。 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-138954 | 強磁性層の垂直磁化を用いた磁気トンネル接合デバイスの製造方法 | 2011年 7月14日 | |
再表 2009-110469 | 磁気トンネル接合デバイスの製造方法及び磁気トンネル接合デバイスの製造装置 | 2011年 7月14日 | |
再表 2009-110608 | 磁気抵抗素子の製造方法及び磁気抵抗素子の製造装置 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-138572 | 磁気記録媒体の製造方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-138357 | 検査システム、検査装置、および検査方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-137666 | 温度測定装置 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-132572 | 基板処理装置 | 2011年 7月 7日 | |
特開 2011-134889 | 処理設定支援装置および処理条件設定方法 | 2011年 7月 7日 | |
特開 2011-134993 | 真空処理装置 | 2011年 7月 7日 |
156 件中 61-75 件を表示
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2011-138944 2011-137616 2011-137596 2011-138653 2011-138844 2011-138859 2011-138954 2009-110469 2009-110608 2011-138572 2011-138357 2011-137666 2011-132572 2011-134889 2011-134993
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11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
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11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
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12月1日(日) -
11月25日(月) -
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