株式会社アルバック
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第167位 266件
（
2010年：第171位 294件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第133位 277件
（2010年：第152位 210件）
（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社アルバックの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4724576 | 多元薄膜形成装置 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4722801 | 成膜装置 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4716779 | アルミニウム又はアルミニウム合金の耐食処理方法 | 2011年 7月 6日 | 共同出願 |
| 特許 4719468 | 小滴アライメントの影響並びに小滴体積許容差及び誤差を軽減するマスキングを含む工業マイクロデポジションシステム | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4718239 | 防着板の製造方法 | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4717896 | スパッタリング装置及び成膜方法 | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4717887 | スパッタリング装置 | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4717776 | 蒸着源、蒸着装置 | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4717202 | 銅薄膜の化学的気相成長法 | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4717186 | スパッタリング装置 | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4718302 | 真空排気装置 | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4716399 | イオン注入装置の静電偏向器 | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4712614 | 真空処理装置 | 2011年 6月29日 | |
| 特許 4714768 | 二次電子増倍素子を使用した測定方法及び二次電子増倍素子を使用した装置 | 2011年 6月29日 | |
| 特許 4714384 | ウエハエッジ部分の処理方法及びプラズマ処理装置 | 2011年 6月29日 |
277 件中 151-165 件を表示
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4724576 4722801 4716779 4719468 4718239 4717896 4717887 4717776 4717202 4717186 4718302 4716399 4712614 4714768 4714384
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