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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6982597 | スパッタリング装置 | 2021年12月17日 | |
特許 6982695 | 蒸着源及び真空処理装置 | 2021年12月17日 | |
特許 6982701 | 静電チャック、真空処理装置及び基板処理方法 | 2021年12月17日 | |
特許 6983030 | 成膜装置、および、成膜方法 | 2021年12月17日 | |
特許 6983033 | スパッタ装置 | 2021年12月17日 | |
特許 6983096 | 真空蒸着装置用の蒸着源 | 2021年12月17日 | |
特許 6983206 | 基板搬送装置、および、基板搬送方法 | 2021年12月17日 | |
特許 6983332 | プラズマCVD装置、および、プラズマCVD法 | 2021年12月17日 | |
特許 6973745 | PZT薄膜積層体の製造方法 | 2021年12月 1日 | |
特許 6969065 | イオン注入方法、イオン注入装置 | 2021年11月24日 | |
特許 6972386 | 吸着装置及び真空処理装置 | 2021年11月24日 | |
特許 6972427 | 成膜方法 | 2021年11月24日 | |
特許 6968300 | スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法 | 2021年11月17日 | |
特許 6959105 | 撹拌装置 | 2021年11月 2日 | |
特許 6959447 | スパッタ成膜装置 | 2021年11月 2日 |
85 件中 1-15 件を表示
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6982597 6982695 6982701 6983030 6983033 6983096 6983206 6983332 6973745 6969065 6972386 6972427 6968300 6959105 6959447
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