※ ログインすれば出願人(株式会社アルバック)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2021年 出願公開件数ランキング 第291位 132件
(2020年:第192位 224件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第322位 84件
(2020年:第293位 94件)
(ランキング更新日:2025年3月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6982597 | スパッタリング装置 | 2021年12月17日 | |
特許 6982695 | 蒸着源及び真空処理装置 | 2021年12月17日 | |
特許 6982701 | 静電チャック、真空処理装置及び基板処理方法 | 2021年12月17日 | |
特許 6983030 | 成膜装置、および、成膜方法 | 2021年12月17日 | |
特許 6983033 | スパッタ装置 | 2021年12月17日 | |
特許 6983096 | 真空蒸着装置用の蒸着源 | 2021年12月17日 | |
特許 6983206 | 基板搬送装置、および、基板搬送方法 | 2021年12月17日 | |
特許 6983332 | プラズマCVD装置、および、プラズマCVD法 | 2021年12月17日 | |
特許 6973745 | PZT薄膜積層体の製造方法 | 2021年12月 1日 | |
特許 6969065 | イオン注入方法、イオン注入装置 | 2021年11月24日 | |
特許 6972386 | 吸着装置及び真空処理装置 | 2021年11月24日 | |
特許 6972427 | 成膜方法 | 2021年11月24日 | |
特許 6968300 | スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法 | 2021年11月17日 | |
特許 6959105 | 撹拌装置 | 2021年11月 2日 | |
特許 6959447 | スパッタ成膜装置 | 2021年11月 2日 |
85 件中 1-15 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
6982597 6982695 6982701 6983030 6983033 6983096 6983206 6983332 6973745 6969065 6972386 6972427 6968300 6959105 6959447
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社アルバックの知財の動向チェックに便利です。
3月24日(月) -
3月25日(火) - 東京 品川区
3月25日(火) -
3月26日(水) - 東京 港区
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月24日(月) -
〒460-0003 愛知県名古屋市中区錦1-11-11 名古屋インターシティ16F 〒104-0061 東京都中央区銀座8-17-5 THE HUB 銀座OCT 407号室(東京支店) 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
大阪府大阪市西区靱本町1丁目10番4号 本町井出ビル2F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都外神田4-14-2 東京タイムズタワー2703号室 特許・実用新案 鑑定