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■ 2011年 出願公開件数ランキング 件
(
2010年: 件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 件
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2010年: 件)
(ランキング更新日:2026年10月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4846543 | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 | 2011年12月28日 | |
| 特許 4845836 | マグネトロンスパッタカソード | 2011年12月28日 | |
| 特許 4847136 | 真空処理装置 | 2011年12月28日 | |
| 特許 4846603 | 配向膜の製造方法 | 2011年12月28日 | |
| 特許 4843572 | マルチチャンバー型真空処理装置 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4839407 | 貼合せ基板製造装置および貼合せ基板製造方法 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4842618 | アルミニウム及びアルミニウム合金の表面処理方法 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4842370 | 真空装置、基板搬送方法 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4843582 | リン酸リチウム焼結体の製造方法およびスパッタリングターゲット | 2011年12月21日 | |
| 特許 4843731 | 真空処理装置 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4843252 | 表面処理装置及び表面処理方法 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4839405 | コンベアおよび成膜装置とそのメンテナンス方法 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4839294 | 半導体ウエハ保持装置 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4842208 | CVD装置、半導体装置、及び光電変換装置 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4837163 | スパッタリング装置 | 2011年12月14日 |
277 件中 1-15 件を表示
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4846543 4845836 4847136 4846603 4843572 4839407 4842618 4842370 4843582 4843731 4843252 4839405 4839294 4842208 4837163
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