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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第327位 135件 (2016年:第499位 67件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第348位 80件 (2016年:第236位 145件)
(ランキング更新日:2024年10月10日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6255481 | 真空溶解鋳造装置 | 2017年12月27日 | |
特許 6255544 | 真空処理装置 | 2017年12月27日 | |
特許 6251588 | 成膜方法 | 2017年12月20日 | |
特許 6245726 | インクジェット装置および液滴測定方法 | 2017年12月13日 | |
特許 6246961 | 成膜装置 | 2017年12月13日 | |
特許 6239359 | 液相エピタキシャル成長装置及び液相エピタキシャル成長方法 | 2017年11月29日 | |
特許 6234764 | ワイヤーグリッド偏光子の製造方法、および、ワイヤーグリッド偏光子用基材 | 2017年11月22日 | |
特許 6234966 | 反応性スパッタ装置 | 2017年11月22日 | |
特許 6230018 | イオン注入装置及びイオン注入方法 | 2017年11月15日 | |
特許 6230019 | 成膜装置及び成膜方法 | 2017年11月15日 | |
特許 6230038 | 深紫外LED及びその製造方法 | 2017年11月15日 | |
特許 6230184 | 成膜装置、成膜方法及び金属酸化物薄膜の製造方法 | 2017年11月15日 | |
特許 6230203 | 抵抗変化素子及びその製造方法 | 2017年11月15日 | |
特許 6232272 | 位置合装置、薄膜形成装置 | 2017年11月15日 | |
特許 6232448 | 電子銃装置及び真空蒸着装置 | 2017年11月15日 |
85 件中 1-15 件を表示
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6255481 6255544 6251588 6245726 6246961 6239359 6234764 6234966 6230018 6230019 6230038 6230184 6230203 6232272 6232448
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