株式会社アルバック
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第167位 266件
（
2010年：第171位 294件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第133位 277件
（2010年：第152位 210件）
（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社アルバックの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4714328 | グラファイトナノファイバーの径の制御方法 | 2011年 6月29日 | |
| 特許 4714322 | 窒化アルミ膜成膜方法 | 2011年 6月29日 | |
| 特許 4713853 | マグネトロンカソード電極及びマグネトロンカソード電極を用いたスパッタリング方法 | 2011年 6月29日 | |
| 特許 4712614 | 真空処理装置 | 2011年 6月29日 | |
| 特許 4714768 | 二次電子増倍素子を使用した測定方法及び二次電子増倍素子を使用した装置 | 2011年 6月29日 | |
| 特許 4714384 | ウエハエッジ部分の処理方法及びプラズマ処理装置 | 2011年 6月29日 | |
| 特許 4713851 | ドライエッチング装置及びドライエッチング方法 | 2011年 6月29日 | |
| 特許 4707693 | スパッタリング装置及びスパッタリング方法 | 2011年 6月22日 | |
| 特許 4707403 | パルス分割供給によるプラズマ処理方法及び装置並びにプラズマＣＶＤ方法 | 2011年 6月22日 | |
| 特許 4701815 | 成膜装置 | 2011年 6月15日 | 共同出願 |
| 特許 4703803 | アルミニウム材の電解研磨処理方法 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4703844 | グラファイトナノファイバー薄膜形成用熱ＣＶＤ装置 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4704267 | 蒸着源、蒸着装置 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4703828 | スパッタリング装置及び薄膜製造方法 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4704189 | 液晶表示装置の製造方法 | 2011年 6月15日 |
277 件中 166-180 件を表示
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4714328 4714322 4713853 4712614 4714768 4714384 4713851 4707693 4707403 4701815 4703803 4703844 4704267 4703828 4704189
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