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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第167位 266件
(2010年:第171位 294件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第133位 277件
(2010年:第152位 210件)
(ランキング更新日:2025年6月2日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 4681215 | 低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法 | 2011年 5月11日 | |
特許 4680619 | プラズマ成膜装置 | 2011年 5月11日 | |
特許 4677123 | 高密度へリコンプラズマを利用した緻密な硬質薄膜の形成装置及び形成方法 | 2011年 4月27日 | |
特許 4677088 | グラファイトナノファイバー薄膜形成用熱CVD装置 | 2011年 4月27日 | |
特許 4676273 | 印刷装置 | 2011年 4月27日 | |
特許 4676487 | ターゲット製造方法 | 2011年 4月27日 | |
特許 4677092 | フラットパネルディスプレイの電極形成方法 | 2011年 4月27日 | |
特許 4677087 | グラファイトナノファイバー薄膜形成用熱CVD装置 | 2011年 4月27日 | |
特許 4678996 | 誘電体膜の成膜方法及び成膜装置 | 2011年 4月27日 | |
特許 4676098 | 吸着装置 | 2011年 4月27日 | |
特許 4676097 | 吸着装置 | 2011年 4月27日 | |
特許 4674777 | 炭化ケイ素膜の形成方法 | 2011年 4月20日 | 共同出願 |
特許 4674898 | 荷電粒子加速器のメンテナンス方法 | 2011年 4月20日 | 共同出願 |
特許 4671579 | Ag合金反射膜およびその製造方法 | 2011年 4月20日 | |
特許 4674061 | 薄膜形成方法 | 2011年 4月20日 |
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4681215 4680619 4677123 4677088 4676273 4676487 4677092 4677087 4678996 4676098 4676097 4674777 4674898 4671579 4674061
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