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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第167位 266件 (2010年:第171位 294件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第133位 277件 (2010年:第152位 210件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4791540 | パネルの製造方法 | 2011年10月12日 | |
特許 4789841 | 金属とチタン酸化物の混合膜の成膜方法及び同膜の成膜装置 | 2011年10月12日 | |
特許 4789769 | インク塗布装置及びインクの塗布方法 | 2011年10月12日 | |
特許 4792151 | 透明AlOxバリア膜の形成方法及び製造装置 | 2011年10月12日 | |
特許 4786629 | バリア膜形成方法 | 2011年10月 5日 | |
特許 4786282 | 蒸発材料の製造方法及び蒸発材料の保管方法 | 2011年10月 5日 | |
特許 4787054 | 封着パネルおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法 | 2011年10月 5日 | |
特許 4782622 | 無機配向膜の形成方法 | 2011年 9月28日 | |
特許 4783524 | 巻取り式ドライエッチング方法及び装置 | 2011年 9月28日 | |
特許 4783585 | 成膜装置 | 2011年 9月28日 | |
特許 4780972 | スパッタリング装置 | 2011年 9月28日 | |
特許 4783561 | 銅配線の形成方法 | 2011年 9月28日 | |
特許 4783525 | 薄膜アルミニウム合金及び薄膜アルミニウム合金形成用スパッタリングターゲット | 2011年 9月28日 | |
特許 4780983 | 有機EL素子製造方法 | 2011年 9月28日 | |
特許 4782314 | プラズマ源及び化合物薄膜作成装置 | 2011年 9月28日 |
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4791540 4789841 4789769 4792151 4786629 4786282 4787054 4782622 4783524 4783585 4780972 4783561 4783525 4780983 4782314
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11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
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11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
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11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
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11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
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11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月26日(火) -
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12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
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12月5日(木) - 東京 港区
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12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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