株式会社アルバック
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第167位 266件
（
2010年：第171位 294件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第133位 277件
（2010年：第152位 210件）
（ランキング更新日：2025年2月18日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社アルバックの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4775911 | アルミニウム−リチウム合金ターゲットの製造方法およびアルミニウム−リチウム合金ターゲット | 2011年 9月21日 | |
| 特許 4778700 | プラズマＣＶＤ方法及び装置 | 2011年 9月21日 | |
| 特許 4776560 | 真空処理装置 | 2011年 9月21日 | |
| 特許 4775892 | 真空用ゲ−トバルブ | 2011年 9月21日 | |
| 特許 4776244 | 表示装置用パネル、表示装置及び表示装置用パネルの製造方法 | 2011年 9月21日 | |
| 特許 4777827 | プラズマディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルの製造方法及びプラズマディスプレイパネルの製造装置 | 2011年 9月21日 | |
| 特許 4776556 | 有機ＥＬ素子、有機ＥＬ素子の製造方法 | 2011年 9月21日 | |
| 特許 4773890 | インク塗布装置及びそれを用いたインクの塗布方法 | 2011年 9月14日 | |
| 特許 4773763 | 塗布装置、スペーサ塗布装置、および印刷ヘッドの清掃方法 | 2011年 9月14日 | |
| 特許 4771421 | 保持装置及び基板受け渡し方法 | 2011年 9月14日 | |
| 特許 4773137 | 冷陰極表示素子及びその作製方法 | 2011年 9月14日 | |
| 特許 4773347 | 成膜装置及びその成膜方法 | 2011年 9月14日 | |
| 特許 4774140 | 高周波電力印加電極に入射する高速中性粒子のエネルギーの分析方法及び分析装置 | 2011年 9月14日 | |
| 特許 4771426 | スペーサ形成方法及びスペーサ形成装置 | 2011年 9月14日 | |
| 特許 4774025 | 吸着装置、搬送装置 | 2011年 9月14日 |
277 件中 91-105 件を表示
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4775911 4778700 4776560 4775892 4776244 4777827 4776556 4773890 4773763 4771421 4773137 4773347 4774140 4771426 4774025
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