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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第167位 266件
(2010年:第171位 294件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第133位 277件
(2010年:第152位 210件)
(ランキング更新日:2025年3月28日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4774006 | エッチング方法 | 2011年 9月14日 | |
特許 4773137 | 冷陰極表示素子及びその作製方法 | 2011年 9月14日 | |
特許 4769628 | 漏洩磁束測定装置及びこの漏洩磁束測定装置を用いた漏洩磁束測定方法並びにこの漏洩磁束測定方法を用いたスパッタリングターゲットの検査方法 | 2011年 9月 7日 | |
特許 4769002 | エッチング方法 | 2011年 9月 7日 | |
特許 4763711 | スパッタリング装置及び成膜方法 | 2011年 8月31日 | |
特許 4758701 | 電子ビーム照射装置、蒸着装置および蒸着方法 | 2011年 8月31日 | |
特許 4763380 | 吸着装置の製造方法 | 2011年 8月31日 | |
特許 4761502 | 層間絶縁膜のドライエッチング方法 | 2011年 8月31日 | |
特許 4754684 | イオン注入装置 | 2011年 8月24日 | |
特許 4755965 | 水晶振動子を使用した液状物の撹拌方法 | 2011年 8月24日 | |
特許 4755898 | カソード基板の作製方法及び表示素子の作製方法 | 2011年 8月24日 | |
特許 4758326 | 塗布装置 | 2011年 8月24日 | |
特許 4754886 | 印刷装置、印刷方法 | 2011年 8月24日 | |
特許 4755029 | 成膜装置 | 2011年 8月24日 | |
特許 4754791 | 真空処理装置 | 2011年 8月24日 |
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4774006 4773137 4769628 4769002 4763711 4758701 4763380 4761502 4754684 4755965 4755898 4758326 4754886 4755029 4754791
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