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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第283位 135件
(2020年:第332位 110件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第250位 116件
(2020年:第276位 101件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6905107 | 基板処理装置、装置管理コントローラ、及び半導体装置の製造方法並びにプログラム | 2021年 7月21日 | |
特許 6905505 | 半導体装置の製造方法、表面処理方法、基板処理装置、およびプログラム | 2021年 7月21日 | |
特許 6905634 | クリーニング方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置、及びプログラム | 2021年 7月21日 | |
特許 6906490 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法およびプログラム | 2021年 7月21日 | |
特許 6906559 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法及びプログラム | 2021年 7月21日 | |
特許 6907406 | 気化器、基板処理装置及び半導体装置の製造方法 | 2021年 7月21日 | |
特許 6902060 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、およびプログラム | 2021年 7月14日 | |
特許 6902576 | ガス供給ノズル、基板処理装置、半導体装置の製造方法およびプログラム | 2021年 7月14日 | |
特許 6903040 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム | 2021年 7月14日 | |
特許 6900412 | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法及びプログラム | 2021年 7月 7日 | |
特許 6894482 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、プログラム及び記録媒体 | 2021年 6月30日 | |
特許 6894521 | 基板処理装置、石英反応管、クリーニング方法並びにプログラム | 2021年 6月30日 | |
特許 6895582 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法及びプログラム | 2021年 6月30日 | |
特許 6896682 | 基板処理装置および半導体装置の製造方法 | 2021年 6月30日 | |
特許 6890114 | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 | 2021年 6月18日 |
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6905107 6905505 6905634 6906490 6906559 6907406 6902060 6902576 6903040 6900412 6894482 6894521 6895582 6896682 6890114
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【特許のはなし・生成系AIのリスクのはなし】~特許の使い方・使える特許の作り方と、生成系AIを業務で使う場合のリスクと対応策について~
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