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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7407153 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、基板処理方法、および、プログラム | 2023年12月28日 | |
特許 7399933 | 基板処理装置、基板処理方法、半導体製造方法、プログラム | 2023年12月18日 | |
特許 7399260 | 基板処理装置、基板処理方法、半導体装置の製造方法、プログラム、およびインナーチューブ | 2023年12月15日 | |
特許 7398493 | 基板処理方法、半導体装置の製造方法、プログラム、および基板処理装置 | 2023年12月14日 | |
特許 7397214 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、基板処理方法、及びプログラム | 2023年12月12日 | |
特許 7394115 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、基板支持具、およびその処理方法 | 2023年12月 7日 | |
特許 7393376 | 半導体装置の製造方法、基板処理方法、プログラム及び基板処理装置 | 2023年12月 6日 | |
特許 7393409 | クリーニング方法、半導体装置の製造方法、プログラム及び基板処理装置 | 2023年12月 6日 | |
特許 7393488 | 基板処理装置および半導体装置の製造方法 | 2023年12月 6日 | |
特許 7391942 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置、プログラムおよび基板処理方法 | 2023年12月 5日 | |
特許 7391064 | 基板処理方法、半導体装置の製造方法、基板処理システム、およびプログラム | 2023年12月 4日 | |
特許 7387685 | 半導体装置の製造方法、基板処理方法、プログラム、および基板処理装置 | 2023年11月28日 | |
特許 7385636 | 基板処理方法、基板処理装置、半導体装置の製造方法およびプログラム | 2023年11月22日 | |
特許 7383832 | 基板処理装置、基板処理方法、半導体装置の製造方法及びプログラム | 2023年11月20日 | |
特許 7382471 | ガス供給ノズル、基板処理装置、半導体装置の製造方法およびプログラム | 2023年11月16日 |
129 件中 1-15 件を表示
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7407153 7399933 7399260 7398493 7397214 7394115 7393376 7393409 7393488 7391942 7391064 7387685 7385636 7383832 7382471
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