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■ 2013年 出願公開件数ランキング 件
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2012年: 件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 件
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2012年: 件)
(ランキング更新日:2026年10月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2013-258375 | 半導体装置およびその製造方法 | 2013年12月26日 | |
| 特開 2013-258629 | リミッタ及び半導体装置 | 2013年12月26日 | |
| 特開 2013-258428 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 | 2013年12月26日 | |
| 特開 2013-258374 | 半導体装置およびその製造方法 | 2013年12月26日 | |
| 特開 2013-255072 | 電流出力制御装置、電流出力制御方法、デジタル制御発振装置、デジタルPLL、周波数シンセサイザ、デジタルFLL、及び半導体装置 | 2013年12月19日 | |
| 特開 2013-251046 | 半導体不揮発性メモリ、半導体不揮発性メモリの電荷蓄積方法、及び電荷蓄積プログラム | 2013年12月12日 | |
| 特開 2013-247129 | 素子分離部を備えた半導体基板の製造方法、半導体装置の製造方法、及び半導体装置 | 2013年12月 9日 | |
| 特開 2013-247254 | 半導体装置およびその製造方法 | 2013年12月 9日 | |
| 特開 2013-247622 | 定電流出力ドライバ及びこれを含む半導体装置 | 2013年12月 9日 | |
| 特開 2013-243418 | モニタリング方法、プラズマモニタリング方法、モニタリングシステム及びプラズマモニタリングシステム | 2013年12月 5日 | 共同出願 |
| 特開 2013-235957 | レジスト塗布装置及びレジスト塗布方法 | 2013年11月21日 | |
| 特開 2013-236331 | 差動増幅器及び半導体装置 | 2013年11月21日 | |
| 特開 2013-236342 | ヒステリシスコンパレータ及び半導体装置 | 2013年11月21日 | |
| 特開 2013-232544 | 樹脂封止方法および半導体装置の製造方法 | 2013年11月14日 | |
| 特開 2013-232550 | 半導体装置及び計測機器 | 2013年11月14日 |
132 件中 1-15 件を表示
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2013-258375 2013-258629 2013-258428 2013-258374 2013-255072 2013-251046 2013-247129 2013-247254 2013-247622 2013-243418 2013-235957 2013-236331 2013-236342 2013-232544 2013-232550
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10月14日(水) - オンライン
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企業の知財部員がすべき「知財実務手順の対応」 ~特許出願から明細書作成のノウハウ及び先行技術調査の基礎、特許権侵害の実務対応~
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