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アクセリス　テクノロジーズ，　インコーポレイテッド

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アクセリス　テクノロジーズ，　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7571146	電荷ストリッピング機構を用いたイオン注入システムにおける金属汚染制御のための装置および方法	2024年10月22日
特許 7558211	有害ガス制御の後処理	2024年 9月30日
特許 7534296	サーモカップル埋込エンドエフェクタを用いた半導体処理装置のためのウェハソーク温度のリードバックおよび制御	2024年 8月14日
特許 7524226	分子状炭素の注入のためのイオン源の寿命を延長させるためのシステムおよび方法	2024年 7月29日
特許 7512193	ＡＥＦ領域におけるインサイチュでのビームラインフィルムの安定化または除去のためのシステムおよび方法	2024年 7月 8日
特許 7511582	イオン注入システムのための改良された荷電ストリッピング	2024年 7月 5日
特許 7506689	高出力ウェハー冷却	2024年 6月26日
特許 7492516	イオン源のためのテトロード引出装置	2024年 5月29日
特許 7474255	イオン注入システムおよび方法	2024年 4月24日
特許 7455857	液体金属イオン源	2024年 3月26日
特許 7455861	複数のアークチャンバを備えるイオン源	2024年 3月26日
特許 7444890	半導体処理装置のための加熱チャンバーハウジングを介したチャンバ壁上での凝縮ガスの低減	2024年 3月 6日
特許 7444891	半導体処理装置のためのパージガス希釈および排気を介したチャンバ壁上での凝縮ガスの低減	2024年 3月 6日
特許 7440414	チャンバポンプおよびパージによるプロセスチャンバの低減に対するガス放出の影響	2024年 2月28日
特許 7440525	リアルタイムドーズ制御のために光学素子の屈曲部におけるビーム電流の推測のための上流電流測定値および下流電流測定値をミックスする方法	2024年 2月28日

16 件中 1-15 件を表示

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7571146 7558211 7534296 7524226 7512193 7511582 7506689 7492516 7474255 7455857 7455861 7444890 7444891 7440414 7440525

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