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信越化学工業株式会社

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  2015年 出願公開件数ランキング    第94位 457件 上昇2014年:第113位 412件)

  2015年 特許取得件数ランキング    第59位 406件 上昇2014年:第66位 549件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 5666408 レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法 2015年 2月12日
特許 5666983 シリコン芯線ホルダおよび多結晶シリコンの製造方法 2015年 2月12日
特許 5667113 時限放出製剤用コーティング用組成物、これによりコーティングされた時限放出固形製剤及び時限放出固形製剤の製造方法 2015年 2月12日
特許 5668710 高分子化合物及びそれを含んだレジスト材料並びにパターン形成方法、該高分子化合物の製造方法 2015年 2月12日
特許 5669257 フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー組成物および該組成物を含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品 2015年 2月12日
特許 5663376 ペリクルフレーム、その製造方法、及びペリクル 2015年 2月 4日
特許 5663507 ペリクルの製造方法 2015年 2月 4日
特許 5664191 有機ケイ素化合物の製造方法 2015年 2月 4日
特許 5664192 有機ケイ素化合物の製造方法 2015年 2月 4日
特許 5664277 ビス(オルガノキシシリル)アルカン化合物の製造方法 2015年 2月 4日
特許 5664351 光硬化性樹脂組成物及びその硬化皮膜を有する物品、その製造方法 2015年 2月 4日
特許 5664424 硬化性パーフルオロポリエーテル組成物、その硬化物を用いたゲル製品 2015年 2月 4日
特許 5664470 ナノインプリント用合成石英ガラス基板の製造方法 2015年 2月 4日
特許 5664471 半導体用合成石英ガラス基板の製造方法 2015年 2月 4日
特許 5664509 パターン形成方法 2015年 2月 4日

423 件中 376-390 件を表示

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5666408 5666983 5667113 5668710 5669257 5663376 5663507 5664191 5664192 5664277 5664351 5664424 5664470 5664471 5664509

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