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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第145位 368件
(2016年:第117位 374件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第139位 238件
(2016年:第147位 240件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6183705 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2017年 8月23日 | |
特許 6183720 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2017年 8月23日 | |
特許 6184697 | 熱処理装置および熱処理方法 | 2017年 8月23日 | |
特許 6184713 | パーティクル測定方法および熱処理装置 | 2017年 8月23日 | |
特許 6184819 | ノズル調整方法および両面塗工装置 | 2017年 8月23日 | |
特許 6185276 | 画像形成装置及びその画像形成方法 | 2017年 8月23日 | |
特許 6186298 | 基板処理システムおよび配管洗浄方法 | 2017年 8月23日 | |
特許 6181487 | 画像記録装置 | 2017年 8月16日 | |
特許 6178090 | パターン形成方法およびパターン形成装置 | 2017年 8月 9日 | |
特許 6178235 | パターン形成方法、パターン印刷方法、パターン形成システムおよびパターン印刷システム | 2017年 8月 9日 | |
特許 6178585 | 位置検出装置、露光装置、および、光量調整方法 | 2017年 8月 9日 | |
特許 6173901 | インクジェット装置およびミスト回収方法 | 2017年 8月 2日 | |
特許 6175253 | データ変換方法、描画システムおよびプログラム | 2017年 8月 2日 | |
特許 6168271 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2017年 7月26日 | |
特許 6168273 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2017年 7月26日 |
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6183705 6183720 6184697 6184713 6184819 6185276 6186298 6181487 6178090 6178235 6178585 6173901 6175253 6168271 6168273
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4月17日(木) - 東京 大田
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4月18日(金) -
4月18日(金) -
4月18日(金) - 北海道 千代田区
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4月23日(水) - 東京 千代田区
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4月24日(木) -
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4月25日(金) -
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