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ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ シーエムピー ホウルディングス インコーポレイテッド
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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第1508位 14件
（
2024年：第2711位 7件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第1731位 10件
（2024年：第3143位 5件）
（ランキング更新日：2026年5月7日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ シーエムピー ホウルディングス インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7792201 | 支持体上の研磨要素を有するＣＭＰ研磨パッド | 2025年12月25日 | |
| 特許 7776943 | 均一な窓を有するＣＭＰ研磨パッド | 2025年11月27日 | |
| 特許 7732765 | 効果を高めた微孔質研磨パッド | 2025年 9月 2日 | |
| 特許 7715529 | オフセット細孔微孔質研磨パッド | 2025年 7月30日 | |
| 特許 7715647 | 高硬度の高多孔性ケミカルメカニカル研磨パッド用配合物及びそれにより製造されたＣＭＰパッド | 2025年 7月30日 | |
| 特許 7712100 | 効果を高めた微孔質研磨パッドを形成する方法 | 2025年 7月23日 | |
| 特許 7708557 | 設計された開口空隙スペースを有する突出構造を有するＣＭＰ研磨パッド | 2025年 7月15日 | |
| 特許 7643839 | 薄膜フルオロポリマー複合ＣＭＰ研磨パッド | 2025年 3月11日 | |
| 特許 7636140 | 低デブリフッ素ポリマー複合ＣＭＰ研磨パッド | 2025年 2月26日 | |
| 特許 7613855 | コバルト、酸化ジルコニウム、ポリ－シリコン及び二酸化ケイ素の膜の選択的化学機械研磨法 | 2025年 1月15日 |
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7792201 7776943 7732765 7715529 7715647 7712100 7708557 7643839 7636140 7613855
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