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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第1667位 14件
(2015年:第1382位 18件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第1083位 20件
(2015年:第2434位 6件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6041095
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銅をケミカルメカニカルポリッシングするための方法 | 2016年12月 7日 | |
特許 6026931
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ケミカルメカニカル研磨層の製造方法 | 2016年11月16日 | |
特許 6021583
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基板を研磨する方法 | 2016年11月 9日 | |
特許 6021584
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調整可能な研磨配合物を用いて研磨する方法 | 2016年11月 9日 | |
特許 6019523
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安定化した濃縮可能なケミカルメカニカルポリッシング組成物および基板研磨方法 | 2016年11月 2日 | |
特許 6002983
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調整可能な絶縁体研磨選択比を有するスラリー組成物及び基板研磨方法 | 2016年10月 5日 | |
特許 5991503
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多官能研磨パッド | 2016年 9月14日 | |
特許 5993360
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化学機械平坦化用の研磨パッド | 2016年 9月14日 | |
特許 5985287
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積層研磨パッド及びその製造方法 | 2016年 9月 6日 | |
特許 5970636
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研磨パッド | 2016年 8月17日 | |
特許 5960489
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ケミカルメカニカルポリッシング組成物及び相変化合金を研磨する方法 | 2016年 8月 2日 | |
特許 5957777
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ポリシリコン、酸化ケイ素および窒化ケイ素を含む基体を研磨する方法 | 2016年 7月27日 | |
特許 5957778
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酸化ケイ素および窒化ケイ素の少なくとも1種とポリシリコンとを含む基体を研磨する方法 | 2016年 7月27日 | |
特許 5947611
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ケミカルメカニカルポリッシング組成物及びゲルマニウム−アンチモン−テルル合金を研磨する方法 | 2016年 7月 6日 | |
特許 5900227
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ケミカルメカニカルポリッシング層の製造方法 | 2016年 4月 6日 |
20 件中 1-15 件を表示
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6041095 6026931 6021583 6021584 6019523 6002983 5991503 5993360 5985287 5970636 5960489 5957777 5957778 5947611 5900227
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4月2日(水) -
4月2日(水) -
4月4日(金) -
4月2日(水) -
4月9日(水) -
4月9日(水) -
4月10日(木) - 東京 港区赤坂3-9-1 紀陽ビル4階
【セミナー|知財業界で働くなら知っておくべき】知財部長と代表弁理士が伝える、知財部と事務所の違いとは〈4/10(木)19時~〉
4月11日(金) -
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