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ローム　アンド　ハース　エレクトロニック　マテリアルズ　シーエムピー　ホウルディングス　インコーポレイテッド

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ローム　アンド　ハース　エレクトロニック　マテリアルズ　シーエムピー　ホウルディングス　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6041095	銅をケミカルメカニカルポリッシングするための方法	2016年12月 7日
特許 6026931	ケミカルメカニカル研磨層の製造方法	2016年11月16日
特許 6021584	調整可能な研磨配合物を用いて研磨する方法	2016年11月 9日
特許 6021583	基板を研磨する方法	2016年11月 9日
特許 6019523	安定化した濃縮可能なケミカルメカニカルポリッシング組成物および基板研磨方法	2016年11月 2日
特許 6002983	調整可能な絶縁体研磨選択比を有するスラリー組成物及び基板研磨方法	2016年10月 5日
特許 5993360	化学機械平坦化用の研磨パッド	2016年 9月14日
特許 5991503	多官能研磨パッド	2016年 9月14日
特許 5985287	積層研磨パッド及びその製造方法	2016年 9月 6日
特許 5970636	研磨パッド	2016年 8月17日
特許 5960489	ケミカルメカニカルポリッシング組成物及び相変化合金を研磨する方法	2016年 8月 2日
特許 5957778	酸化ケイ素および窒化ケイ素の少なくとも１種とポリシリコンとを含む基体を研磨する方法	2016年 7月27日
特許 5957777	ポリシリコン、酸化ケイ素および窒化ケイ素を含む基体を研磨する方法	2016年 7月27日
特許 5947611	ケミカルメカニカルポリッシング組成物及びゲルマニウム−アンチモン−テルル合金を研磨する方法	2016年 7月 6日
特許 5900227	ケミカルメカニカルポリッシング層の製造方法	2016年 4月 6日

20 件中 1-15 件を表示

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6041095 6026931 6021584 6021583 6019523 6002983 5993360 5991503 5985287 5970636 5960489 5957778 5957777 5947611 5900227

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