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ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ シーエムピー ホウルディングス インコーポレイテッド

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  2016年 出願公開件数ランキング    第1667位 14件 下降2015年:第1382位 18件)

  2016年 特許取得件数ランキング    第1083位 20件 上昇2015年:第2434位 6件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6041095 選択 銅をケミカルメカニカルポリッシングするための方法 2016年12月 7日
特許 6026931 選択 ケミカルメカニカル研磨層の製造方法 2016年11月16日
特許 6021583 選択 基板を研磨する方法 2016年11月 9日
特許 6021584 選択 調整可能な研磨配合物を用いて研磨する方法 2016年11月 9日
特許 6019523 選択 安定化した濃縮可能なケミカルメカニカルポリッシング組成物および基板研磨方法 2016年11月 2日
特許 6002983 選択 調整可能な絶縁体研磨選択比を有するスラリー組成物及び基板研磨方法 2016年10月 5日
特許 5991503 選択 多官能研磨パッド 2016年 9月14日
特許 5993360 選択 化学機械平坦化用の研磨パッド 2016年 9月14日
特許 5985287 選択 積層研磨パッド及びその製造方法 2016年 9月 6日
特許 5970636 選択 研磨パッド 2016年 8月17日
特許 5960489 選択 ケミカルメカニカルポリッシング組成物及び相変化合金を研磨する方法 2016年 8月 2日
特許 5957777 選択 ポリシリコン、酸化ケイ素および窒化ケイ素を含む基体を研磨する方法 2016年 7月27日
特許 5957778 選択 酸化ケイ素および窒化ケイ素の少なくとも1種とポリシリコンとを含む基体を研磨する方法 2016年 7月27日
特許 5947611 選択 ケミカルメカニカルポリッシング組成物及びゲルマニウム−アンチモン−テルル合金を研磨する方法 2016年 7月 6日
特許 5900227 選択 ケミカルメカニカルポリッシング層の製造方法 2016年 4月 6日

20 件中 1-15 件を表示

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6041095 6026931 6021583 6021584 6019523 6002983 5991503 5993360 5985287 5970636 5960489 5957777 5957778 5947611 5900227

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