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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第1441位 19件
(2016年:第1667位 14件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第1232位 16件
(2016年:第1083位 20件)
(ランキング更新日:2025年3月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6246263 | 酸化ケイ素および窒化ケイ素の少なくとも1種とポリシリコンとを含む基体を研磨する方法 | 2017年12月13日 | |
特許 6238664 | 溝付き化学機械研磨層の製造方法 | 2017年11月29日 | |
特許 6239923 | ケミカルメカニカルポリッシング組成物及び方法 | 2017年11月29日 | |
特許 6177665 | 軟質かつコンディショニング可能なケミカルメカニカル研磨パッド | 2017年 8月 9日 | |
特許 6178841 | 放射状流ロータ・ステータ混合機およびポリマー性泡沫を製造する方法 | 2017年 8月 9日 | |
特許 6164963 | 化学機械研磨層のプレテクスチャリングの方法 | 2017年 7月19日 | |
特許 6155018 | 研磨パッド | 2017年 6月28日 | |
特許 6155019 | 研磨パッド | 2017年 6月28日 | |
特許 6141359 | 化学機械平坦化用の研磨パッド | 2017年 6月 7日 | |
特許 6137793 | タングステンをケミカルメカニカルポリッシングするための方法 | 2017年 5月31日 | |
特許 6128161 | 基板をケミカルメカニカルポリッシングする方法 | 2017年 5月17日 | |
特許 6118501 | 安定した濃縮可能な水溶性セルロースフリーのケミカルメカニカル研磨組成物 | 2017年 4月19日 | |
特許 6118502 | 安定した濃縮可能なケミカルメカニカル研磨組成物及びそれに関連する方法 | 2017年 4月19日 | |
特許 6091276 | 窓を有するケミカルメカニカル研磨層の製造方法 | 2017年 3月 8日 | |
特許 6093236 | アルカリ土類金属酸化物ポリマー研磨パッド | 2017年 3月 8日 |
17 件中 1-15 件を表示
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6246263 6238664 6239923 6177665 6178841 6164963 6155018 6155019 6141359 6137793 6128161 6118501 6118502 6091276 6093236
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3月24日(月) -
3月25日(火) - 東京 品川区
3月25日(火) -
3月26日(水) - 東京 港区
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月26日(水) -
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