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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第1542位 15件 (2021年:第2162位 10件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第977位 23件 (2021年:第1703位 10件)
(ランキング更新日:2024年9月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7197330 | アミン開始ポリオール含有硬化剤からの高除去速度ケミカルメカニカルポリッシングパッド | 2022年12月27日 | |
特許 7193313 | 多目的の複合窓を有する研磨パッド | 2022年12月20日 | |
特許 7184542 | 改善された除去速度及び平坦化のためのケミカルメカニカルポリッシングパッド | 2022年12月 6日 | |
特許 7181009 | 制御された滞留CMP研磨法 | 2022年11月30日 | |
特許 7176854 | 脂肪族ポリウレタン光学的終点検出窓及びこれらを含むCMP研磨パッド | 2022年11月22日 | |
特許 7171259 | タングステンのための化学的機械的研磨法 | 2022年11月15日 | |
特許 7168352 | 高速CMP研磨法 | 2022年11月 9日 | |
特許 7160570 | シャロートレンチアイソレーション用の水性シリカスラリー組成物とその使用方法 | 2022年10月25日 | |
特許 7152217 | シャロートレンチアイソレーションにおいて使用するための水性シリカスラリー組成物、及びそれらの使用方法 | 2022年10月12日 | |
特許 7148288 | 均一なCMP研磨方法 | 2022年10月 5日 | |
特許 7144146 | タングステンのための化学機械研磨法 | 2022年 9月29日 | |
特許 7144147 | ポリグリコール及びポリグリコール誘導体を使用する、タングステンのための化学機械研磨法 | 2022年 9月29日 | |
特許 7131977 | 緩衝CMP研磨溶液 | 2022年 9月 6日 | |
特許 7127971 | 熱可塑性ポロメリック研磨パッド | 2022年 8月30日 | |
特許 7103794 | タングステンのための化学機械研磨法 | 2022年 7月20日 |
23 件中 1-15 件を表示
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7197330 7193313 7184542 7181009 7176854 7171259 7168352 7160570 7152217 7148288 7144146 7144147 7131977 7127971 7103794
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