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ローム　アンド　ハース　エレクトロニック　マテリアルズ　シーエムピー　ホウルディングス　インコーポレイテッド

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ローム　アンド　ハース　エレクトロニック　マテリアルズ　シーエムピー　ホウルディングス　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7391595	タングステン用のケミカルメカニカルポリッシング組成物及び方法	2023年12月 5日
特許 7359554	欠陥抑制を向上させた研磨組成物及び基板の研磨方法	2023年10月11日
特許 7355487	カチオン性粒子含有スラリー及びスピンオン炭素膜のＣＭＰのためのその使用方法	2023年10月 3日
特許 7338959	フランジ付き光学的終了点検出窓及びそれを含むＣＭＰ用研磨パッド	2023年 9月 5日
特許 7323271	偏倚されたパルスＣＭＰ溝パターン	2023年 8月 8日
特許 7311396	ケミカルメカニカルポリッシングパッド及び研磨方法	2023年 7月19日
特許 7311397	ケミカルメカニカルポリッシングパッド及び研磨方法	2023年 7月19日
特許 7294794	パッド摩耗インジケータを有する研磨パッド	2023年 6月20日
特許 7274844	浅溝分離に使用するための水性シリカスラリー及びアミンカルボン酸組成物並びにその使用方法	2023年 5月17日
特許 7274845	浅溝分離に使用するための水性低砥粒シリカスラリー及びアミンカルボン酸組成物並びにその製造方法及び使用方法	2023年 5月17日
特許 7260698	ケミカルメカニカル研磨パッド	2023年 4月18日
特許 7231362	コバルト用ケミカルメカニカルポリッシング方法	2023年 3月 1日
特許 7231364	研磨における選択的窒化物除去のための水性シリカスラリー及びアミンカルボン酸組成物並びにその使用方法	2023年 3月 1日
特許 7231365	研磨における選択的窒化物除去のための水性アニオン性官能性シリカスラリー及びアミンカルボン酸組成物並びにその使用方法	2023年 3月 1日
特許 7207870	台形ＣＭＰ溝パターン	2023年 1月18日

18 件中 1-15 件を表示

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7391595 7359554 7355487 7338959 7323271 7311396 7311397 7294794 7274844 7274845 7260698 7231362 7231364 7231365 7207870

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