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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第993位 27件 (2017年:第1441位 19件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第1700位 10件 (2017年:第1232位 16件)
(ランキング更新日:2024年9月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6437762 | サファイア表面を研磨するための化学的機械研磨組成物及びその使用方法 | 2018年12月12日 | |
特許 6423205 | ポリウレタン研磨パッド | 2018年11月14日 | |
特許 6423214 | 低欠陥化学機械研磨組成物 | 2018年11月14日 | |
特許 6389054 | シリコンウェーハ研磨組成物及び関連する方法 | 2018年 9月12日 | |
特許 6375352 | 化学機械平坦化用の研磨パッド | 2018年 8月15日 | |
特許 6367611 | 軟質かつコンディショニング可能な研磨層を有する多層化学機械研磨パッドスタック | 2018年 8月 1日 | |
特許 6334266 | 軟質かつコンディショニング可能な化学機械研磨パッドスタック | 2018年 5月30日 | |
特許 6312471 | 研磨パッド及びその製造方法 | 2018年 4月18日 | |
特許 6302335 | 安定した、濃縮可能なシリコンウェーハ研磨組成物及び関連する方法 | 2018年 3月28日 | |
特許 6290004 | 軟質かつコンディショニング可能な化学機械ウィンドウ研磨パッド | 2018年 3月 7日 |
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6437762 6423205 6423214 6389054 6375352 6367611 6334266 6312471 6302335 6290004
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